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高新光谱领域专利侵权案反击成功 彩和律师全力无效涉案专利
发布时间:2026-03-25


       近日,北京知识产权法院就原告某光谱数据科技公司(以下简称“原告”)诉被告国家知识产权局、第三人北京与光科技有限公司(以下简称“与光公司”)专利权无效行政纠纷一案作出判决。北京彩和律师事务所代表与光公司参加诉讼,最终法院判决驳回原告诉讼请求,维持了国家知识产权局宣告涉案专利“全部无效”的决定。

 

       案件背景

       此前,原告以与光公司侵犯其名为“兼具光谱和成像功能的成像光谱芯片及其制备方法”的发明专利权为由,向法院提起民事侵权诉讼。面对严峻的法律挑战,与光公司委托北京彩和律师事务所进行应对。 

       彩和律师团队在深入研究涉案专利后,通过海量文献检索与严谨的技术对比,提交了包括多篇国内外顶级学术期刊论文及同类专利在内的数十项证据,并成功将涉案专利全部无效。随着该专利被宣告无效,此前原告针对与光公司发起的专利侵权民事诉讼,也已因失去权利基础被法院依法裁定驳回起诉。

 

       法律博弈与角逐重点

       在这一场高新芯片领域的专利权无效行政纠纷中,彩和律师团队针对原告(专利权人)提出的核心诉讼理由,进行了极具针对性的专业反击。以下是案件博弈的详细技术与法律要点总结:

 

       1. 核心技术特征的“现有性”博弈

       原告主张其专利具有“入射光谱反演”和特定的“滤光薄膜”结构,认为这些特征未被证据1(Johannes Brauers等人的论文)公开。 

       彩和律师反击点:

       - 公式一致性:彩和律师指出,证据1已经公开了用于计算传感器响应的公式(1),该公式与本专利的计算公式实质相同。

       - 原理通用性:彩和律师论证了本专利与现有技术在光线传输路径上的信号处理逻辑一致,所谓的“反演”只是基于已知公式在不同应用场景下的逆向运算,不具备突出的实质性特点。

 

       2. 制造工艺的“技术启示”博弈

       原告强调其滤光薄膜是由N种材料通过“逐一涂覆、刻蚀后拼接”而成,认为这是一种创新的制备方法。 

       彩和律师反击点:

       - 多证据结合:彩和律师引入了证据2(CN108352391A),证明通过形成掩模、干式蚀刻、逐一涂覆不同颜色颜料来制造彩色滤光片是半导体成像器件领域的成熟优化工艺。 

       - 公知常识论证:对于本领域技术人员而言,利用滤光薄膜实现分光是常见手段,相应的制备工艺在液晶显示等领域已属于成熟技术,不存在结合障碍。

 

       3. 功能融合的“动机”博弈

       原告认为其专利实现了“兼具光谱和成像功能”的高精度成像,具有显著的技术进步。 

       彩和律师反击点:

       - 跨领域技术关联:彩和律师通过证据4(Nature Communications上的论文)证明,现有技术中已经存在基于光子晶体平板(PC板)的光谱仪,且明确记载了可以进行高光谱成像及光谱恢复。 

       - 改进动机:彩和律师论证了本领域技术人员有充分的动机将证据4中的成像与光谱恢复技术结合到证据1的传感器结构中,这种功能融合对专业人士而言是显而易见的 。

 

       4. 程序正当性的“法律辩护”

       原告曾质疑被告(国家知识产权局)在评审中主动引入“比尔朗伯定律”作为公知常识违反了听证原则 。 

       彩和律师反击点:

       - 彩和律师协同被告方有力论证了:引用基础物理定律仅属于论理时的举例说明,不构成实质性的证据引入程序违法。这一主张最终获得了法院支持,确保了行政决定的稳定性。


       本案的胜诉,不仅有力维护了与光公司的合法权益与创新成果,更展现了北京彩和律师事务所在处理复杂半导体、精密光学及芯片领域专利法律事务的深厚专业功底与实战经验。彩和将继续秉持专业、高效的理念,为高新科技企业提供全方位的知识产权护航。